书目详细信息
： 书刻相对论:刻道与书法的辩证统一
书目信息 机读格式(MARC)
| ISBN/价格： | 978-7-5326-5779-7:CNY90.00 |
|---|---|
| 作品语种： | chi |
| 出版国别： | CN 310000 |
| 题名责任者项： | 书刻相对论/.胡川隆编著 |
| 出版发行项： | 上海:,上海辞书出版社:,2021 |
| 载体形态项： | 93页,[1]页图版:;+图 (部分彩图):;+24cm |
| 提要文摘： | 本书收录作者关于非遗项目留墨石刻、书法、传拓等研究文章和相关媒体报道，并配有数十幅非遗留墨石刻作品，是作者在留墨石刻方面研究成果和报道的一次汇集。 |
| 题名主题： | 大理石 石刻 雕塑技法 研究 |
| 索书号： | J314.3/H63 |
| 中图分类： | J314.3 |
| 个人名称等同： | 胡川隆, 编著 |
| 记录来源： | CN 浙江省新华书店集团公司 20211018 |