书目详细信息
： 完美曝光
书目信息 机读格式(MARC)
| ISBN/价格： | 978-7-115-21580-2:CNY65.00 |
|---|---|
| 作品语种： | chi eng |
| 出版国别： | CN 110000 |
| 题名责任者项： | 完美曝光/.(美) Rick Sammon著/.张波译 |
| 出版发行项： | 北京:,人民邮电出版社:,2010 |
| 载体形态项： | 14, 215页, [1] 页图版:;+彩图:;+26cm |
| 提要文摘： | 本书讲解了曝光在摄影中的重要作用，以及获取出色曝光的途径和技法。从直接影响曝光的两大因素——快门速度和光圈开始讲起，分析不同类型的光线、感光度和白平衡设置、曝光模式和测光模式选择、包围曝光和曝光补偿等，并介绍了闪光灯曝光、色彩模式、自然光控制、直方图、Photoshop后期处理等知识。 |
| 并列题名： | Rick Sammon’s exploring the light : making the very best in-camera exposures eng |
| 题名主题： | 曝光 摄影技术 |
| 索书号： | J41/S12 |
| 中图分类： | J41 |
| 个人名称等同： | 萨蒙, 著 |
| 个人名称次要： | 张波 译 |
| 记录来源： | CN CEPC 20100304 |